有掩膜光刻机高稳定性，操作便捷

　　一、有掩膜光刻机UVLitho-Y产品介绍：
（1）当代集成电路的发展进程中，紫外光刻技术起着不可替代的作用。利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光刻技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路的集成度，也成为了评价光刻设备品质的关键指标。
（2）常规光刻机需要定制光学掩模板，不但价格高，且灵活性差。任何设计上的变动，都需要重新制造掩模板。激光直写设备具备很高的灵活性，且可以达到较高的精度，但由于是逐行扫描，曝光效率较低。近些年，基于空间光调制器(DMD/DLP）的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。
（3）UVLitho-Y是一款桌面型无掩模板紫外光刻机。z小分辨率可达1.5um(光刻镜头A)，高性能无铁芯直线驱动电机保证了z佳的套刻精度和z大2英寸的图形拼接，而基于空间光调制器的光刻技术，使得其在光学掩模板设计上有着得天独厚的优势。高效、灵活、高分辨率和高套刻精度等众多优点，必将使其成为二维材料、电输运测试，光电测试、太赫兹器件和毫米波器件等领域的科研利器。
二、有掩膜光刻机UVLitho-Y特点：
1.所见即所得的精准套刻
2.高稳定性，操作便捷
3.光刻图案设计灵活
4.z小特征线宽1.5μm
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